在电子与微电子工业领域，镀金的应用几乎是渗透到每一个神经末梢。从宏观的连接器、开关、继电器的触点，到印刷电路板（PCB）的金手指（Edge Connector），再到微观的半导体芯片的键合焊盘（Bonding Pads）、引线框架（Lead Frame）以及集成电路（IC）的内部互连，镀金都扮演着“导电卫士”的角色。PCB的金手指之所以镀金，是因为需要频繁与插槽接触，金的低接触电阻和高耐磨性保证了数据传输的稳定且经久耐用。在芯片封装中，比头发丝还细的金线需要通过热声键合技术连接到镀金的焊盘上，实现芯片与外部世界的电信号连接，这里要求镀层极其均匀、纯净，且与底层（通常是镍）结合力好，避免“紫斑”等失效现象。此外，在晶圆级封装、射频器件（如波导管）、以及高可靠的航天航空、***电子设备中，镀金更是标准配置，因为它能承受极端温度变化和振动，并确保数十年如一日的性能零退化。可以说，没有镀金技术，现代电子产品的小型化、高密度化和高可靠性将无从谈起。
如果工件表面在镀金前存在油污、锈迹、灰尘或其他杂质，会影响镀金层的沉积。例如，油污会阻碍电流在工件表面的均匀分布，使得在有油污的区域镀金层难以形成或者形成的厚度较薄，而其他清洁区域则正常沉积，导致厚度不均匀。工件表面粗糙度不一致也会引起镀金层厚度不均匀。粗糙的表面实际表面积比光滑表面大，在电镀过程中，金属离子在粗糙区域的沉积速度可能与光滑区域不同。比如，经过不同程度打磨的工件，打磨较粗糙的部分会比打磨精细的部分沉积更多的金离子，造成镀金层厚度差异。
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